威恒液位传感器WKC319-KP-WL119-NP：精准检测半导体镀膜设备工艺液体有无

在半导体镀膜设备精密自动化生产体系中，对设备腔体、储液罐、输送管路内三甲基铝、四氯化钛等镀膜工艺液体的有无检测，是保障薄膜沉积工艺稳定、把控晶圆镀膜品质、杜绝工艺异常的核心核心工序。半导体镀膜属于超高精密加工工艺，对生产环境、介质供给、设备工况有着极高的标准要求，镀膜前驱体药液的持续、稳定供给，直接决定晶圆镀膜均匀度、薄膜厚度精度及产品良率。一旦液位检测出现偏差，轻则造成工艺药液断供、镀膜工序暂停，打乱精密生产节拍，重则引发设备空镀、薄膜残缺、晶圆报废等重大质量问题，同时会导致精密镀膜设备空载运行，造成核心腔体损耗，给半导体企业带来高昂的设备维护成本、晶圆损耗成本与订单交付延误损失。因此，一款适配半导体镀膜严苛工况、耐腐蚀、抗挂液、零误报的高精度液位传感器，是半导体镀膜设备自动化精密生产不可或缺的关键组件。

传统检测方案的技术痛点

当前，在半导体镀膜设备的工艺药液检测场景中，普通液位传感器普遍存在难以克服的技术短板，无法适配精密化工况。半导体镀膜所用的三甲基铝、四氯化钛等前驱体药液具备易挂壁、轻微腐蚀、高纯度精密介质的特性，药液在输送、存储过程中，极易在传感器探头表面形成薄层挂液残留。普通液位传感器抗干扰能力差，无法区分探头表面挂液与真实液体液位，会持续生成虚假液位信号，导致检测系统频繁误报，严重干扰镀膜设备的自动化精准控制。

例如，在晶圆薄膜沉积工序中，若传感器因探头挂液误判药液充足，系统会持续维持供液关停状态，导致镀膜腔体药液断供，引发空镀、薄膜镀层不均、晶圆报废等问题；若误判药液缺失，系统会持续补液，造成药液溢出、管路积液，不仅浪费昂贵的半导体工艺药液，还会污染精密设备腔体，引发设备报警停机、工序中断。此外，长期的药液挂壁残留会腐蚀普通传感器探头，导致检测灵敏度持续衰减、数据失真，无法满足半导体镀膜高精度、高稳定性、连续性的生产要求，极大制约半导体精密镀膜工艺的自动化升级。

新解决方案介绍

Waytop 推出的液位传感器 WKC319-KP-WL119-NP，专为解决半导体镀膜设备工艺药液检测难题量身设计。该传感器搭载升级免挂液专利电路设计（专利号：ZL2015 20344946X.），针对三甲基铝、四氯化钛等镀膜药液易挂壁的特性优化算法，即便探头表面存在药液挂液残留，仍可精准识别真实液体介质状态，彻底杜绝挂液误报问题，完美适配半导体镀膜设备高精度、高洁净、耐腐蚀的复杂精密工况。

液位传感器WKC319-KP-WL119-NP 的核心参数与特性如下：

型号：WKC319-KP-WL119-NP

尺寸：151*50.5*22mm，规整工业级尺寸，适配半导体镀膜设备储液罐、输送管路、工艺腔体周边等专用安装位置，适配精密设备安装规范

用途说明：液位传感器WKC319-KP-WL119-NP用于半导体镀膜设备，检测三甲基铝、四氯化钛等液体有无并输出开关量信号，挂液无误报

输出信号：输出开关量信号，响应迅速精准，可实时反馈工艺药液的介质状态变化，匹配半导体镀膜设备高精度实时监测与自动化联动控制需求

材质：PEEK探头+316L不锈钢钢身；材质耐腐蚀，可有效抵御三甲基铝、四氯化钛等工艺药液的轻微腐蚀，适配半导体精密化工况，使用寿命更长

适用行业：半导体镀膜设备行业

适用场景：适用于半导体PVD、CVD镀膜设备储液罐、药液输送管路、前驱体供液腔体、工艺补液系统等液位检测场景

传感器原理介绍

WKC319-KP-WL119-NP液位传感器采用高精度智能电容感应检测原理，搭载工业级高精度信号处理芯片，结合半导体药液检测专属抗干扰算法，可动态自适应调节检测阈值，精准捕捉探头感应区域内的电容场细微变化，以此判定工艺液体的有无状态。设备工作时，传感器探头形成稳定的高精度感应电场，当三甲基铝、四氯化钛等镀膜药液接触或脱离探头时，介质介电常数的变化会让电场产生规律性信号波动，芯片可快速捕捉、解析有效检测信号。

针对半导体镀膜设备最核心的药液挂液误报痛点，该传感器通过算法优化与硬件升级双重保障，可智能过滤探头表面薄层挂壁药液产生的虚假信号，仅识别真实、完整的液体液位状态，从根源杜绝挂液导致的误报、漏报问题。同时，传感器具备优异的介质适配性与抗腐蚀稳定性，可适配多种半导体镀膜前驱体药液，无需频繁校准参数，能够长期在密闭、精密、带轻微腐蚀的镀膜设备工况下稳定工作，持续为半导体镀膜工艺的药液供给、工序联动、品质管控提供精准可靠的检测数据支撑，保障晶圆镀膜工艺的一致性与稳定性。

选型过程

国内某半导体精密设备制造企业，其自主研发的全自动半导体镀膜设备，长期受普通液位传感器检测不稳定的问题困扰。该设备主要用于晶圆薄膜沉积工艺，核心介质为三甲基铝、四氯化钛等精密镀膜药液，此类药液极易在传感器探头表面挂壁残留，传统传感器无法区分挂液与真实液位，频繁触发误报警。频繁的信号异常直接导致设备补液紊乱、镀膜工序中断、晶圆批量报废，不仅造成昂贵工艺药液的浪费，还严重影响半导体精密生产的良率与产能，大幅增加设备运维与生产成本。

针对半导体镀膜设备精密化、耐腐蚀、零误报的核心需求，Waytop 技术团队开展专项选型适配调研。结合设备药液易挂壁、介质带腐蚀性、检测精度要求极高的工况特点，解决挂液误报、提升材质耐腐蚀性、保障长期检测稳定成为核心选型标准。液位传感器WKC319-KP-WL119-NP凭借专属免挂液专利算法、耐腐蚀高端材质的核心优势，成为设备配套的最优解决方案。现场安装如下图1所示：

图1

进一步实测验证，WKC319-KP-WL119-NP液位传感器的开关量信号响应精准快速，可完美匹配半导体镀膜设备高精度自动化联动控制系统，杜绝信号延迟、误触发导致的工艺故障。其PEEK探头+316L不锈钢耐腐蚀材质，可长期耐受镀膜工艺药液的轻微腐蚀，不会出现探头老化、检测失灵的问题，大幅降低设备维保频次与成本。同时151*50.5*22mm的标准工业尺寸，完全契合半导体镀膜设备标准化安装结构，无需改造设备腔体与管路结构，安装便捷、适配性极高。

在调试与使用层面，该传感器操作简洁高效，安装固定后完成一次性精准校准即可长期稳定运行，无需频繁调试参数。针对半导体无尘精密生产场景，传感器结构紧凑、密封性强，可适配无尘车间生产标准。经过为期3个月的现场整机实测，在药液持续挂壁、精密密闭的严苛镀膜工况下，传感器全程零误报、零故障，检测数据稳定精准，彻底解决了企业的工艺检测难题，目前已批量配套应用于该企业全系半导体镀膜设备。

总结

企业批量搭载WKC319-KP-WL119-NP液位传感器后，半导体镀膜设备因液位检测误报导致的工序停机、工艺异常问题彻底根除，设备非计划停机次数减少90%以上，昂贵镀膜工艺药液浪费量降低85%，晶圆镀膜良品率、工艺稳定性大幅提升，有效降低了半导体生产的物料损耗、产品报废成本与设备运维成本，生产线整体精密生产效率提升约15%，为半导体精密镀膜工艺的自动化、高品质生产提供了坚实保障。

WKC319-KP-WL119-NP液位传感器凭借挂液零误报、耐腐蚀、高精度、适配性广的核心优势，可全面适配各类半导体镀膜设备工况。无论是CVD化学镀膜、PVD物理镀膜设备的前驱体药液检测，还是各类半导体精密供液系统、补液系统的介质监测，均可实现长期稳定、精准的液位检测，有效保障半导体镀膜工序的连续性、精密性与稳定性，是半导体精密镀膜设备配套的优选液位检测配件。

威恒液位传感器事业部介绍

广州市威恒电子（高新技术企业，证书编号：GR202544010308）深耕精密传感技术研发与工业落地，专注高精度、耐腐蚀、抗干扰液位传感器的研发、生产与定制配套服务，在半导体精密设备、光电镀膜、精密化工等高端制造领域积淀了深厚的技术功底与成熟的落地经验。公司液位传感器事业部拥有一支高端精密传感研发团队，核心人员均具备多年高端工业传感研发经验，覆盖硬件电路设计、精密算法开发、耐腐蚀结构优化、现场工况调试、定制方案输出等全链条服务，可快速攻克半导体镀膜设备各类精密液位检测技术难题。

凭借强劲的精密传感研发创新能力，事业部已取得5项发明专利及31项其他专利，构建了完善的精密传感技术知识产权体系。依托专属抗挂液算法、耐腐蚀高端材质工艺、精密化产品设计，可针对不同类型半导体镀膜设备、不同工艺药液、不同精密工况，提供定制化、高适配的液位检测解决方案，精准匹配半导体高端制造的精密生产需求，助力半导体设备企业提升自动化精度、生产良率与核心设备竞争力。

更多资讯，详询 13660269343 吴工（6 年行业经验，半导体设备液位传感器应用工程师）。